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POLISHX/セラミック & 貴金属材料
Product & technical reference

セラミック & 貴金属材料

硬質セラミックやシーリングリング、宝石に対応した専用の研磨粉末・スラリーを提供しています。高い除去率と優れた表面平坦性により、製品品質の向上とコスト削減を実現する方法について紹介しました。

Technical profile

Manufacturer / publisherGRISH / Beijing Grish Hitech
Brand / publisherGRISH
Content typeapplications
Language日本語
CategoryLapping, honing & superfinishing
Updated2026-10-16
GRISH published content
Source: https://grish.com/ja/application/ceramic-precious-materials/ · Original publication: 2022-10-04. Manufacturer claims and terminology are reproduced as source material.Explore Application solutions ↗
アプリケーション

セラミック & 貴金属材料

グリッシュは硬質セラミック、シーリングリング、宝石用の粉末および研磨スラリーを提供します

私たちの強み

グリッシュの可能性

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ワンストップ研磨ソリューション

グリッシュは超微細研磨研磨材だけでなく、研磨パッド、固体ワックス、脱ワックス液などの研磨アクセサリーも提供し、サプライチェーンをより簡単にします。

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高い除去率

均一な球状研磨粒子により、私たちの研磨スラリーは高い除去率と安定した研磨性能を持ち、Ra<0.1nmおよびTTV<3umを達成します。

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コスト効率の良いプロセス

12,000m²を超える工場基盤と信頼できる製造チームを持ち、私たちの製品の安定性と一貫性を保証します。また、私たちの研磨スラリーはリサイクル可能です。

模式図

セラミック & 貴金属材料の研磨方法

セラミック & 貴金属材料は多くの業界で広く使用されており、研磨プロセスは製造において重要です。グリッシュの研磨粉とスラリーは、セラミック & 貴金属材料の研磨専用に開発されています。高い除去率、優れた表面平坦度(Ra、TTV、LTV)、高い合格率を特徴とし、コスト削減と研磨効果の向上を実現します。

セラミック & 貴金属材料

セラミック研磨プロセス

研磨プロセスは一般に両面ラッピング(30-60分)と超微細研磨(120分)を含みます。2.5時間未満で、Ra10-15nmを得ることが期待されます。

両面ラッピング

(30-60分) 

洗浄

超微細研磨(120分)

AlN / SiN熱放散基板研磨ソリューション

AlN / SiN熱放散基板研磨ソリューションステップグリッシュ製品
両面ラッピング(30-60分)粗研磨液
超微細研磨(240-480分)ナノダイヤモンド超微細研磨液 + 研磨パッド
CMPスラリー + 水晶プレート

グリッシュは特別な粗研磨液と超微細研磨液を使用してAlN / SiN熱放散基板の研磨を行います。粗研磨プロセスと超微細研磨プロセスを通じて、ラッピング時間が大幅に短縮され、仕上げの品質が向上し、顧客の作業効率を向上させるのに役立ちます。

グリッシュは顧客の要望に応じて基板を処理し、研磨と研削における包括的なソリューションを提供できます。

AlN / SiN熱放散基板研磨ソリューション ステップ グリッシュ製品
両面ラッピング(30-60分) 粗研磨液
超微細研磨(240-480分) ナノダイヤモンド超微細研磨液 + 研磨パッド
CMPスラリー + 水晶プレート
グリッシュは特別な粗研磨液と超微細研磨液を使用してAlN / SiN熱放散基板の研磨を行います。粗研磨プロセスと超微細研磨プロセスを通じて、ラッピング時間が大幅に短縮され、仕上げの品質が向上し、顧客の作業効率を向上させるのに役立ちます。 グリッシュは顧客の要望に応じて基板を処理し、研磨と研削における包括的なソリューションを提供できます。
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