CMP суспензия
-
Быстрая и безопасная логистика
-
Получить образцы бесплатно
Посмотрите ближе на CMP суспензию
Что такое CMP суспензия?
CMP суспензия, также известная как химико-механическая планаризация, - это жидкая дисперсия, содержащая активные химические вещества и микроабразивные частицы, используемые в различных промышленных applications. Этот процесс удаляет материалы за счет сочетания химического и механического действия и состоит из окислителей, хелатирующих агентов и ингибиторов коррозии.
При использовании в производстве полупроводников и мембран CMP суспензия предназначена для точного удаления материалов с заданной поверхности, чтобы уменьшить дефекты и получить согласованную и мощную планаризацию.
Применения и функции CMP суспензии
CMP суспензии - это гетерогенные дисперсии, состоящие из микроабразивных частиц, диспергированных в химически активной подвижной фазе. Они прежде всего используются в сочетании с шлифовальными или ротационными полировальными установками для удаления небольших объемов поверхностного материала с обычно жестких кристаллических деталей.
CMP суспензия является коррозионной и должна находиться в контакте только с совместимыми материалами. Они используются для достижения высоко гладких и планаризованных поверхностей материалов и особенно полезны для производства полупроводниковых устройств. Кроме того, что она уменьшает грубую топографию до планаризованного состояния, CMP также позволяет производителю устройства достичь глобальной планаризации всей поверхностиwafer за один шаг.
Преимущества CMP суспензии Grish
CMP суспензия GRISH предлагает несколько преимуществ по сравнению с традиционными суспензиями. Ее однородные сферические частицы SiO2 обеспечивают превосходные результаты полировки по сравнению с другими суспензиями, что приводит к лучшим значениям Ra и TTV.
Кроме того, она предлагает отличную скорость удаления при сохранении последовательности своей полировальной производительности благодаря своей способности к многоразовой переработке. CMP суспензия GRISH - это превосходный выбор для ваших потребностей в CMP.
Спецификации
-
Спецификации
Модель Размер частиц Внешний вид частиц pH Вязкость Концентрация Упаковка SOQ-12D 90нм-110нм Сферическая - 20% - SO-100-PF 90нм-110м 10.5±0.5 20-50% 5кг 20кг SO-80-PF 70нм-90м SO-60-PF 50нм-70нм SO-40-PF 30нм-50нм SO-20-PF 10нм-30нм 10-40% Испытательный инструмент Лазерный анализатор частиц SEM/TEM pH метры Вискозиметр Гидрометр -
Загрузки
CMP суспензия Скачать
Приложения
-
Светодиоды и полупроводники
Grish предоставляет полировочные продукты для полировки светодиодов и полупроводников. Мы предлагаем как влажные, так и сухие полировальные суспензии, а также формулы на масляной и водной основе.
Читать далее -
Оптическое стекло и кристалл
Мы предлагаем широкий ассортимент полировочных продуктов для оптики, стекла и ювелирных изделий.
Читать далее -
Полировка металлов
Grish специализируется на предоставлении полировочных пленок, порошков и суспензий для полировки твердых сплавов, нержавеющей стали и форм.
Читать далее -
Керамические и драгоценные материалы
Grish предоставляет порошки и полировочные суспензии для твердых керамик, уплотнительных колец и драгоценностей
Читать далее